跳到主要內容區塊

歐傑電子能譜儀/Auger Electron Spectroscopy

AES
AES
  MICROLAB 350 歐傑電子能譜儀(Auger Electron Spectroscopy, AES)是一種分析材料表面組織形態及化學結構的儀器,可適用於電機、機械、電子、材料、化學、化工等研究領域。

  AES是利用一電子束為激發源,游離表面原子內層能階的電子使外層能階電子填補內層能階所產生的電洞,同時釋出能量進而傳輸給同原子的外層能階電子,造成接受能量的電子產生激發游離;此時,游離之電子稱為歐傑電子.歐傑電子具有特殊的動能。一般都依據其動能大小而判別其材料表面元素的種類。

  本設備採用電子束光源為Schottky Emission Cathode與一般掃描式電子顯微鏡一樣具有二次電子影像(Secondary Electron Image, SEI)功能及原理,且其搭配筒鏡能量分析器(Cylindrical Mirror Analyzer, CMA)可對於被電子束所激發出的歐傑電子偵測,藉由AES分析可分辨從原子序3Li起對樣品做定性及定量分析。與EDS成分分析深度差異在於EDS為um等級而歐傑電子為nm等級成分分析,因此對於表面分析是非常靈敏,可應用於析出物、氧化層或蝕刻分析等。

一、儀器設備說明

儀器裝機時間:2010年9月

加入貴儀時間:2011年1月

Microlab 350(Thermo Fisher Scientific, UK)

二、服務項目
  1. Survey:定性或定量分析
  2. Auger Point:定性或定量分析
  3. Auger Line Scan:定性及定量分析,例如擴散分析等
  4. Auger Mapping:元素分佈
  5. Depth profile:不同深度下元素分佈情況,例如氧化層厚度分析
  6. SEI(二次電子影像):與一般掃描式電子顯微鏡功能及原理一樣
三、取樣應注意事項
  1. 由於AES是對試樣表面非常靈敏的儀器,因此,保時試片表面的原狀與潔淨,對分析結果的正確與否非常重要。例如手指接觸到試片表面,則可能會檢測出Cl、C、Na、O等外來的污染元素。
  2. 樣品規格:AES面積小於1cm*1cm,厚度小於5mm。
  3. 樣品不得具有磁性,毒性.輻射性。
  4. Depth profile以不超過1um為原則。
  5. 適用樣品:金屬、薄膜、導電材料等。
四、收費辦法及標準
  1. AES分析:3000元/小時。
  2. AES Depth Profile 3500元/小時。
  3. AES Mapping 每次3000元。
五、本儀器之指導教授與技術員
儀器專家:林士剛 教授  (06)2757575轉62970 linsk@mail.ncku.edu.tw
技術員:翁女貴 小姐  (06)2757575轉31357   marg@mail.ncku.edu.tw

六、本儀器放置地點

成大自強校區 儀器設備大樓B1 『歐傑電子能譜儀實驗室(B110)』
七、實際範例
1
2
3
八、參考文獻
  1. Jia-Hong Huang, Tzu-Chun Lin, Ge-Ping Yu "Phase transition and mechanical properties of ZrNxOy thin films on AISI 304 stainless steel", Surface & Coatings Technology 206, (2011), 107–116
  2.  J. Liday, I. Hotovy’, H. Sitter, K. Schmidegg, P. Vogrincˇicˇ, A. Bonnani, J. Breza, G. Ecke, I. Va’vra "Auger electron spectroscopy of Au/NiOx contacts on p-GaN annealed in N2 and O2 + N2 ambients", Applied Surface Science, 253, (2007) 3174–3180
  3. K. Balazsi, I.E. Lukacs, S. Gurban, M. Menyhard, L. Bacakova, M. Vandrovcova, C. Balazsi "Structural, mechanical and biological comparison of TiC and TiCN nanocomposites films", Journal of the European Ceramic Society, 33, (2013), 2217–2221
  4. A. Vesel, M. Mozeti?, P. Panjan, N. Hauptman, M. Klanjsek-Gunde, M. Balat-Pichelin, "Etching of carbon–tungsten composite with oxygen plasma", Surface & Coatings Technology, 204, (2010), 1503–1508
  5. John F. Watts, John Wolstenholme. (2003) An Introduction To Surface Analysis By XPS And AES. The Atrium, Southern Gate, Chichester. West Sussex PO19 8SQ, England: John Wiley & Sons Ltd.

 

瀏覽數: